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光刻机的技术不仅仅体现在它自身的技术上，更关键的是它需要多个部门，多种技术相互融合而成，单靠某一个企业是不能完成的，而是需要多个企业，多个国家的共同支持。

比如ASML作为目前全球最顶尖的光刻机制造企业，它几乎垄断了全球14纳米以上的高光刻机，也是目前全球唯一一家能够生产出7纳米光刻机的企业。但即便是这样一个顶尖的光刻机企业，它也并不是单单靠自己力量走到今天，而是背靠多个国家多个企业的力量才走到了今天这个位置。

比如asml的光源设备由美国企业提供，镜头由德国蔡司提供，此外包括三星，海力士，台积电等芯片巨头也给asml提供了技术支持和资金支持，也正因为如此，asml才能够不断强大，并把尼康佳能等竞争对手甩在了后面。

就目前情况来看，我国光刻机技术跟asml的差距是非常大的，目前我国拥有自主知识产权的光刻机只有90纳米的，虽然45纳米已经在试验阶段，但并没有完全量产，类似中芯国际这种芯片代工企业的14纳米生产工艺也都是进口的是asml的光刻机。

虽然过去十几年我国对芯片行业的研发非常重视，也取得了积极的效果，但是在芯片制造的关键环节，光刻机的进度并不是很明显，这里面有一个很重要的原因，就是西方国家对我国芯片技术进行封锁，涉及光刻机的一些关键技术和零部件基本上都是禁止对我国出口，所以在研发光客刻机的路上，我国基本上都只能慢慢摸爬滚打，总结经验，然后不断提高，这也是为什么我国光刻机研发进度这么慢的一个重要原因。