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目前国内能够制造的最先进的光刻机为28nm，之后能制造更先进的光刻机，但是总体和阿斯麦公司的光刻机依然有着15年左右的差距，目前台积电已经可以制造5nm的芯片了，目前华为想要在国内建立，没有美国技术的生产线，利用欧洲以及日本的技术来制造，但是即使现在提出这项计划，在短期内依然不太可能实现，首先在半导体材料方面，我们的技术也依然需要美国技术的支持，美国可能只需要稍改制裁内容，就可能将花费很大力气建立起来生产线停摆。

根据部分媒体的消息，华为现在正在向大量的半导体供应商提出要求，希望这些供应商可以将封测以及印刷线路，等一些工作全部转移到国内，但是响应者寥寥无几。因为这些公司或多或少的都在使用美国的技术。